Over de training

OMNEO biedt een gespecialiseerde eendaagse training, gericht op professionals in de productieketen van de halfgeleiderindustrie. Dit programma is uitermate geschikt voor ontwikkelaars, sales- en marketingprofessionals, leidinggevenden en operators die hun kennis willen verdiepen op het gebied van reinheid binnen hightech omgevingen.

Elke trainingssessie wordt afgestemd op het kennisniveau en de interesses van de deelnemers, voor maximale relevantie en impact.

Locatie & Faciliteiten

De training wordt bij voorkeur gegeven op de OMNEO-locatie in Best, waar deelnemers gebruik kunnen maken van:

• Een volledig uitgerust laboratorium
• Een gecertificeerde cleanroom
• Gespecialiseerde meetapparatuur, waaronder meerdere Residual Gas Analysers (RGA)

Training op locatie bij de klant is mogelijk op aanvraag. Houd hierbij rekening met extra kosten voor reis en eventuele overnachtingen.

Trainingsmodules

• 1.0 Wat is schoon – waarom is schoon belangrijk?
  • Functionele specificaties van reinheid
  • Invloed van deeltjes op wafers en reticles
  • Functionele en optische contaminatie
  • Contaminatiegraden (van Grade 4 tot Grade 1)
• 2.0 Hoe wordt reinheid gemeten?
  • Soorten moleculaire contaminatie (direct en indirect)
  • Methoden voor reinheidsverificatie
  • GSA 07 9510 standaard: Moleculaire reinheid
• 3.0 Hoe wordt schoon geproduceerd?
  • Ontwerp van clean facilities
  • Rol van metaalbewerkingsvloeistoffen
  • Beheer van gereedschap en verbruiksartikelen
• 4.0 Hoe wordt gereinigd?
  • Watergebaseerde reiniging en bake-out: voor- en nadelen
  • Oplosmiddelgebaseerde reiniging: voor- en nadelen
  • Procesvalidatie en -controle
• 5.0 Hoe wordt schoon gehouden?
  • Detectie en meting van deeltjes
  • Cleanroomconcepten en ISO-classificaties
  • Beheersing van zwevende deeltjes
• 6.0 Geavanceerde onderwerpen
  • Residual Gas Analysis (RGA)
  • Pompen, gas-eigenschappen en gastypes
  • Massaspectrometrie: principes en spectruminterpretatie
  • Inzicht in moleculaire massa

Inbegrepen

• Een volledige trainingsdag voor maximaal 8 deelnemers
• Mogelijkheid tot verdieping op specifieke onderwerpen op basis van interesse
• Eventueel gebruik van verschillende meetapparatuur zoals RGA systemen
• Eventueel gebruik van de cleanroom met particle counter en PDM
• Een verzorgde lunch, evenals koffie, thee, water en frisdranken (bij training in Best)